国际商标注册马德里体系作为国内创新主体在海外寻求知识产权保护的主要途径之一,正受到越来越多的国内企业、科研机构的关注和应用。为进一步促进马德里体系在中国的推广,使更多国内创新主体了解和应用马德里体系,国家知识产权局将与世界知识产权组织联合在京举办国际商标注册马德里体系研讨会,现将有关事项通知如下:
会议内容
本次会议将邀请世界知识产权组织马德里体系运营司高级代表及国家知识产权局商标局专家就马德里体系的最新进展、在中国的发展及运用技巧、马德里申请实践等议题进行介绍和研讨。具体内容及日程详见附件。
参会人员
本次会议参会人员以对商标国际注册马德里体系有了解意愿的企业、代理机构人员为主。会议采用中英文交传的方式进行。
会议时间
会议时间为2019年7月8日(周一)全天。具体时间为上午9:00-12:00(8:00开始注册报到);下午13:30-17:30。会务组提供工作午餐。
会议地点
会议地点为:
中国知识产权培训中心一期二层多功能厅
地址:北京市海淀区上地信息路6号
报名方式及其他事项
有意向报名的参会人员请填写附件1中的报名表并于2019年7月5日(周五)17:00前讲报名表发送至以下邮箱:
liangchen@ciptc.org.cn
会议资料电子版将在会上发放,会务组不提供会议纸质资料。会议期间的住宿、交通、停车等由参会人员自理。
特此通知。
2.
会议日程草案
国家知识产权局国际合作司
中国知识产权培训中心
二零一九年六月二十八日